종래의 질화법의 문제점을 개선하기 위해 플라즈마 질화 반응 이론을 기초로 개발된

새로운 기법의 플라즈마 질화장치 입니다.

제품 특성에 맞게 스크린 또는 제품에 Bias 인가를 선택 및 조합하여

라디칼 질화(경면질화)와 다양한 이온질화가 가능합니다.